離子注入設備
類(lèi)別: 應用示例
發(fā)布日期:2017年12月26日(星期二)
離子注入是一種通過(guò)將離子化物質(zhì)注入固體來(lái)改變固體性質(zhì)的一種加工方法。
在半導體制造的前端工藝中,通過(guò)使用離子注入,可以向晶片中引入適當的雜質(zhì)以改善半導體元件特性。
廣泛用于控制半導體材料的電特性的工藝中,一般由產(chǎn)生的離子束的束量和能量,可以分為中等電流離子注入設備、大電流離子注入設備及高能量離子注入設備。
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