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濺射設(shè)備

類別: 應(yīng)用示例 發(fā)布日期:2017年12月26日(星期二)

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濺射是一種用帶電粒子轟擊靶材,加速的離子轟擊固體表面時(shí),發(fā)生表面原子碰撞并發(fā)生能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移,使靶材原子從表面逸出并淀積在襯底材料上并形成一層膜。
與真空蒸鍍相比,可以形成致密性極好的高精度薄膜。
此外,此外,也可以使用蒸鍍中不能夠使用的高熔點(diǎn)材料,因此它們是目前超LSI和半導(dǎo)體領(lǐng)域不可或缺的材料。

磁流體也是平板顯示器、觸摸屏以及太陽能電池等濺射鍍膜設(shè)備中的重要零件,我們公司向國內(nèi)外鍍膜設(shè)備公司提供高品質(zhì)磁流體。
我們的磁流體可以對應(yīng)各種類型的鍍膜設(shè)備,歡迎來電或郵件咨詢。

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